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M80110-3/UM型 LPCVD设备
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发布时间：2022年10月11日
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产品型号：M80110-3/UM型
产品简介：低压化学气相淀积设备（LPCVD），是在 20 ～ 300PA左右的反应压力下，通过气体的化学反应生成固体反应物，并使其淀积在硅片表面形成薄膜的工艺设备。M80110-3/UM型是我司第三代大产能LPCVD设备，适用于晶硅电池行业中的TOPCON电池多晶硅薄膜的制备，具有产能大、工艺效果好、兼容原位掺杂工艺等特点。
应用领域：新能源-光伏产业链生产企业
核心参数：成膜种类：SiOx、Poly—Si、原位掺杂
方阻范围：100-300nm
石英管内径：≥420mm
典型装片量：182硅片:1400片/舟； 210硅片:1200片/舟
182硅片:≥1400片/舟（常规方形）；210硅片:≥1200片/舟（常规方形）
温度控制范围：400℃-700℃
遂穿层均匀性：片内≤±0.2NM、片间≤±0.2NM、批间≤±0.1NM
本征层均匀性：片内≤5%、片间≤4%、批间≤3%
原位掺杂均匀性：片内≤5%、片间≤5%、批间≤4%
温度控制范围：400℃ -700℃
恒温区长度及精度：≤±1℃/1700mm (500℃ -700℃)
工作压力：20 - 300Pa(闭环控制)
联系人：黄凌飞 联系方式：18684881206
